各学院（部）：
上海市科委已发布2010年度先进制造、先进材料领域重大科技攻关项目指南，项目申报工作也已启动，具体内容如下：
一、研究目标、内容及期限
专题一、激光显示产业化关键技术研究
研究目标：针对激光显示产业发展需求,开发功率在50MW以上，波长为440～450nm的蓝光半导体激光器件，并实现产业化；完成尺寸在0.2英寸以下，解析度为800×600和1080×720的单片式LCOS微型显示芯片的设计与封装，为微型投影机产业化提供配套支持；开发解析度为1920×1280以上的高清晰度LCOS微型显示芯片，形成为高清晰度激光电视产业化和特殊显示提供关键部件的能力；建立微型激光投影模块及其应用产品生产线；制定相关技术和产品标准。
研究内容：
1、蓝光激光器关键技术：蓝光半导体激光光源外延生长工艺，蓝激光器件封装技术；
2、微型激光投影模块及应用产品关键技术：微型激光光学引擎设计制造技术，提高激光光源利用效率和消除散斑的技术，微型激光投影模块及其应用产品的批量生产技术；
3、LCOS芯片关键技术：LCOS芯片集成电路设计技术、液晶设计与封装技术，包括为单片式微型显示器配套的小尺寸LCOS微型显示芯片，单片式和三片式背投显示高清显示LCOS显示芯片，医学影像等超高清特殊LCOS显示芯片。
研究期限：2012年12月31日前完成。
专题二、光电子核心装备－AMOLED投影光刻机研制
研究目标：研制2.5代AMOLED投影光刻机，通过光刻工艺验证，并正式交付用户使用，为国内OLED生产线建设提供核心装备和配套技术服务；完成4.5代光刻机详细设计方案，试制配套的大行程高精度扫描工件台，编制光刻工艺技术文件。
研究内容：
1、基板尺寸为370mm*470mm的全自动扫描光刻机设计、制造和光刻工艺：超大视场、高分辨率投影物镜的设计、加工技术与装校工艺；大行程高精度扫描工件台研制；全自动扫描光刻机系统软件开发及其验证平台开发；光刻机对位精度、套刻精度、分辨率、曝光均匀性、再现性、稳定性研究；基于机器视觉的离轴对准系统和空间像传感器设计；全自动大尺寸掩模版传输及存储单元设计；高精度大腔体温度控制单元研制等内容。
2、基板尺寸为730mm*920mm的光刻机方案设计研究及配套工件台设计与制造。
研究期限：2012年6月30日前完成。
二、申请条件
1、项目申报需以企业为主体，鼓励产学研合作承担研究开发任务，牵头单位应具备较强的技术实力和较好的前期研究基础，合作开发需附上合作协议。
２、申请专题一申报单位自筹资金不得低于70％，申请专题二申报单位自筹资金不得低于50％。
三、申请方式
1、申请者可从“上海科技”网站（http://www.stcsm.gov.cn）上进入“在线受理科研计划项目可行性方案”，在线填写并提交《上海市科学技术委员会科研计划项目课题可行性方案（2010版）》。
2、课题责任人和主要科研人员，同期参与承担国家和地方科研项目数不得超过三项，已申报今年市科委其它类别项目者应主动予以申明。
3、申请人请于4月9日前在线提交可行性方案，并打印书面可行性方案一式4份（A4双面打印，附件单面打印）交至科技处，由科技处统一上报。
4、《单位基本信息》、《依托单位意见》和《项目承担企业（单位）知识产权情况表》请上学校科技处网站“文档下载”区下载相关文件，按其内容统一填写。
科技处联系人：董伟 黄华杰 联系电话：55270566
科技处
2010-3-25